Title:

System do widmowej analizy promieniowania widzialnego

Creator:

Opilski, Zbigniew ; Pustelny, Tadeusz ; Maciak, Erwin ; Gibiński, Paweł ; Kubica, Wincenty ; Woźnica, Tomasz ; Urbańczyk, Marian ; Sieroń, Aleksander

Keywords:

analiza widmowa ; onkologia ; promieniowanie widzialne

Description:

numer zgłoszenia: 403380 ; data zgłoszenia: 2007-06-06 ; numer publikacji: PL 217916 ; data publikacji: 2014-09-30 ; wydzielono ze zgłoszenia: 382568

Publisher:

Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej

Resource Type:

opis patentowy

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

Baza „Dorobek”

Source:

Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji

Language:

pol

Relation:

Wydział Elektryczny. Politechnika Śląska

Rights Management:

własność autora

Access:

zasób dostępny bez ograniczeń

Source of funding:

UDA-RPSL.01.03.00-00-042/12-00