Title:
System do widmowej analizy promieniowania widzialnego
Creator:
Opilski, Zbigniew ; Pustelny, Tadeusz ; Maciak, Erwin ; Gibiński, Paweł ; Kubica, Wincenty ; Woźnica, Tomasz ; Urbańczyk, Marian ; Sieroń, Aleksander
Keywords:
analiza widmowa ; onkologia ; promieniowanie widzialne
Description:
numer zgłoszenia: 403380 ; data zgłoszenia: 2007-06-06 ; numer publikacji: PL 217916 ; data publikacji: 2014-09-30 ; wydzielono ze zgłoszenia: 382568
Publisher:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Resource Type:
Format:
Resource Identifier:
Source:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
Language:
Relation:
Wydział Elektryczny. Politechnika Śląska