• ris
    • BibTeX

System do widmowej analizy promieniowania widzialnego

Opilski, Zbigniew; Pustelny, Tadeusz; Maciak, Erwin; Gibiński, Paweł; Kubica, Wincenty; Woźnica, Tomasz; Urbańczyk, Marian; Sieroń, Aleksander

Title:

System do widmowej analizy promieniowania widzialnego

Creator:

Opilski, Zbigniew ; Pustelny, Tadeusz ; Maciak, Erwin ; Gibiński, Paweł ; Kubica, Wincenty ; Woźnica, Tomasz ; Urbańczyk, Marian ; Sieroń, Aleksander

Keywords:

analiza widmowa ; onkologia ; promieniowanie widzialne

Description:

numer zgłoszenia: 403380 ; data zgłoszenia: 2007-06-06 ; numer publikacji: PL 217916 ; data publikacji: 2014-09-30 ; wydzielono ze zgłoszenia: 382568

Publisher:

Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej

Resource Type:

opis patentowy

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

Baza „Dorobek”

Source:

Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji

Language:

pol

Relation:

Wydział Elektryczny. Politechnika Śląska

Rights Management:

własność autora

Access:

zasób dostępny bez ograniczeń

Source of funding:

UDA-RPSL.01.03.00-00-042/12-00

Secured publication

This publication is unavailable to your account. If you have more privileged account please try to use it or contact with the institution connected to this digital library.

How would you like to display the object?

Apply