Analiza powierzchniowych procesów elektronowych w strukturze metal-SiO2-GaAs
Autor: Słowa kluczowe:arsenek galu ; powierzchnia międzyfazowa ; struktura MIS ; procesy elektronowe ; powierzchniowe procesy elektronowe
Wydanie: Miejsce wydania: Wydawca:Wydawnictwo Politechniki Śląskiej
Data wydania: Uwagi:Data otwarcia przewodu habilitacyjnego 10.X.2001 r. ; Habilitacja 23.I.2002 r.
Typ zasobu: Seria:Zeszyty Naukowe Politechniki Śląskiej. Matematyka-Fizyka ; Zeszyty Naukowe Politechniki Śląskiej ; 0072-470X
Format: Identyfikator zasobu:Katalog Biblioteki-Zeszyty Naukowe ; Katalog Biblioteki-Praca Habilitacyjna ; Baza Wiedzy PŚ
Źródło: Język: Powiązania:Wydział Elektroniki. Politechnika Wrocławska
Prawa:Wydawnictwo Politechniki Śląskiej
Dostęp: Źródło finansowania: