Digital Library of the Silesian University of Technology contains 75 004 digital objects
Object
Title: Sposób wytwarzania kwasu 4-metoksybenzoesowego o wysokiej czystości z 4-metyloanizolu lub mieszaniny izomerów metyloanizolu
Description:
numer zgłoszenia: 394003 ; data zgłoszenia: 2011-02-23 ; numer publikacji: PL 214523 ; data publikacji: 2013-08-30
Publisher:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Contributor:
Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Format:
Resource Identifier:
Baza „Dorobek” ; oai:delibra.bg.polsl.pl:33922
Source:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
Language:
Relation:
Wydział Chemiczny. Politechnika Śląska
Rights Management:
Access:
Source of funding:
UDA-RPSL.01.03.00-00-042/12-00
Object collections:
- Digital Library > COLLECTIONS OF PUBLICATIONS OF THE SILESIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY > Publications from database "Bibliography of scientific publications of Silesian University of Technology"
- Digital Library > COLLECTIONS OF PUBLICATIONS OF THE SILESIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY > Patents, industrial designs and utility models
Last modified:
Mar 24, 2017
In our library since:
Jan 27, 2016
Number of object content hits:
65
All available object's versions:
https://delibra.bg.polsl.pl/publication/37851
Show description in RDF format:
Show description in OAI-PMH format:
Objects Similar
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Szmidt, Iwona Marek, Adam Andrzej Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Szmidt, Iwona Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Hefczyc, Barbara Orlińska, Beata Piotrowski, Tomasz Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Stec, Zbigniew Knips, Ulrich Zellerhoff, Robert Gilner, Danuta Orlińska, Beata Polaczek, Jerzy Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Stec, Zbigniew Orlińska, Beata Marek, Adam Radziszewska, Justyna Keim, Helmut Puhl, Marco Bodora, Kazimierz Macionga, Arkadiusz Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Hefczyc, Barbara Piotrowski, Tomasz Orlińska, Beata Nolte, Marek Nolte, Izabella Zięba, Adam Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Stec, Zbigniew Zawadiak, Jan Knips, Ulrich Zellerhoff, Robert Gilner, Danuta Orlińska, Beata Polaczek, Jerzy Tęcza, Witold Machowska, Zofia Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Kowalczuk, Marek Adamus, Grażyna Maksymiak, Magdalena Zawadiak, Jan Kwiecień, Michał Kurcok, Piotr Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
