System do widmowej analizy promieniowania widzialnego
Creator:Opilski, Zbigniew ; Pustelny, Tadeusz ; Maciak, Erwin ; Gibiński, Paweł ; Kubica, Wincenty ; Woźnica, Tomasz ; Urbańczyk, Marian ; Sieroń, Aleksander
Keywords:onkologia ; promieniowanie widzialne ; analiza widmowa
Description:numer zgłoszenia: 382568 ; data zgłoszenia: 2007-06-06 ; numer publikacji: PL 215334 ; data publikacji: 2013-11-29
Publisher:Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Resource Type: Format: Resource Identifier: Source:Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
Language: Relation:Wydział Elektryczny. Politechnika Śląska
Rights Management: Access: Source of funding: