Gasztych, Dionizy. Promotor ; Karmiński, Władysław. Recenzent ; Plaskura, Władysław. Recenzent ; Zwierzykowski, Włodzimierz. Recenzent
Katalog Biblioteki ; oai:delibra.bg.polsl.pl:5854
Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej. Politechnika Śląska
zasób dostępny wyłącznie z komputerów Biblioteki Politechniki Śląskiej
brak możliwości drukowania i edycji dokumentu
Działalność Upowszechniająca Naukę - umowa nr 549/P-DUN/2018
10 cze 2019
28 mar 2013
11
https://delibra.bg.polsl.pl/publication/6209
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Łękawska, Ewa, 1970, Sulfonowanie i siarczanowanie gazowym trójtlenkiem siarki w reaktorze szczelinowym | 10 cze 2019 |
Łękawska, Ewa Gasztych, Dionizy. Promotor Karmiński, Władysław. Recenzent Plaskura, Władysław. Recenzent Zwierzykowski, Włodzimierz. Recenzent
Szeja, Wiesław Niedzielski, Czesław Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Nowak, Marian Gasztych, Dionizy. Promotor Jarocki, Bolesław. Recenzent Waksmundzki, Andrzej. Recenzent
Nowak, Marian Gasztych, Dionizy. Promotor Jarocki, Bolesław. Recenzent Waksmundzki, Andrzej. Recenzent
Zwierzykowski, Włodzimierz
Plaskura, Władysław
Karmiński, Władysław
Janota, Henryk Burczyk, Bogdan. Recenzent Borchardt, Alfons. Recenzent Karmiński, Władysław. Recenzent Kulicki, Zdzisław. Promotor