Biblioteka Cyfrowa Politechniki Śląskiej udostępnia 74 663 obiektów cyfrowych
Obiekt
Tytuł: Sposób wytwarzania makromonomerów poli(3-hydroksyalkanianowych)
Autor:
Kurcok, Piotr ; Kowalczuk, Marek ; Michalak, Michał ; Zawadiak, Jan ; Marek, Adam Andrzej
Typ zasobu:
Opis:
numer zgłoszenia: 396926 ; data zgłoszenia: 2011-11-08 ; numer publikacji: PL 224368 ; data publikacji: 2016-12-30
Wydawca:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Współtwórca:
Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Format:
Identyfikator zasobu:
Źródło:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
Język:
Powiązania:
Wydział Chemiczny. Politechnika Śląska
Prawa:
Dostęp:
Źródło finansowania:
UDA-RPSL.01.03.00-00-042/12-00
Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:
- Biblioteka Cyfrowa > KOLEKCJE PUBLIKACJI PRACOWNIKÓW POLITECHNIKI ŚLĄSKIEJ > Opisy patentowe, wzory przemysłowe i wzory użytkowe
Data ostatniej modyfikacji:
9 cze 2017
Data dodania obiektu:
9 cze 2017
Liczba wyświetleń treści obiektu:
58
Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:
https://delibra.bg.polsl.pl/publication/46076
Wyświetl opis w formacie RDF:
Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Kurcok, Piotr [et al.] : Sposób wytwarzania makromonomerów poli(3-hydroksyalkanianowych) (2016) | 9 cze 2017 |
Obiekty Podobne
Zawadiak, Jan Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Michalak, Michał Marek, Adam Andrzej Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Kowalczuk, Marek Adamus, Grażyna Maksymiak, Magdalena Zawadiak, Jan Kwiecień, Michał Kurcok, Piotr Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Ermel, Jolanta
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Szmidt, Iwona Marek, Adam Andrzej Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Szmidt, Iwona Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Hefczyc, Barbara Piotrowski, Tomasz Orlińska, Beata Nolte, Marek Nolte, Izabella Zięba, Adam Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
