Digital Library of the Silesian University of Technology contains 75 004 digital objects
Object
Title: Sposób wytwarzania makromonomerów poli(3-hydroksyalkanianowych)
Creator:
Kurcok, Piotr ; Kowalczuk, Marek ; Michalak, Michał ; Zawadiak, Jan ; Marek, Adam Andrzej
Resource Type:
Description:
numer zgłoszenia: 396926 ; data zgłoszenia: 2011-11-08 ; numer publikacji: PL 224368 ; data publikacji: 2016-12-30
Publisher:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Contributor:
Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Format:
Resource Identifier:
Source:
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
Language:
Relation:
Wydział Chemiczny. Politechnika Śląska
Rights Management:
Access:
Source of funding:
UDA-RPSL.01.03.00-00-042/12-00
Object collections:
- Digital Library > COLLECTIONS OF PUBLICATIONS OF THE SILESIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY > Patents, industrial designs and utility models
Last modified:
Jun 9, 2017
In our library since:
Jun 9, 2017
Number of object content hits:
58
All available object's versions:
https://delibra.bg.polsl.pl/publication/46076
Show description in RDF format:
Show description in OAI-PMH format:
| Edition name | Date |
|---|---|
| Kurcok, Piotr [et al.] : Sposób wytwarzania makromonomerów poli(3-hydroksyalkanianowych) (2016) | Jun 9, 2017 |
Objects Similar
Zawadiak, Jan Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Michalak, Michał Marek, Adam Andrzej Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Kowalczuk, Marek Adamus, Grażyna Maksymiak, Magdalena Zawadiak, Jan Kwiecień, Michał Kurcok, Piotr Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Brodowska, Iwona. Rzecznik patentowy
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr
Jedliński, Zbigniew Kowalczuk, Marek Kurcok, Piotr Ermel, Jolanta
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Szmidt, Iwona Marek, Adam Andrzej Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Orlińska, Beata Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Szmidt, Iwona Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
Zawadiak, Jan Marek, Adam Andrzej Hefczyc, Barbara Piotrowski, Tomasz Orlińska, Beata Nolte, Marek Nolte, Izabella Zięba, Adam Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
