Obiekt

Ta publikacja jest chroniona prawem autorskim. Dostęp do jej cyfrowej wersji jest możliwy tylko z wybranych sieci na Politechnice Śląskiej. Pracownicy i Studenci Politechniki Śląskiej mogą uzyskać dostęp poprzez system uwierzytelniania HAN
Ta publikacja jest chroniona prawem autorskim. Dostęp do jej cyfrowej wersji jest możliwy tylko z wybranych sieci na Politechnice Śląskiej. Pracownicy i Studenci Politechniki Śląskiej mogą uzyskać dostęp poprzez system uwierzytelniania HAN

Tytuł: Zastosowanie warstw opartych na stopie Ni-P w technologii rezystorów warstwowych i fotowoltaice ; The usage of layers based on Ni-P alloy in the film resistors technology and photovoltaics

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

4 mar 2022

Data dodania obiektu:

6 lis 2020

Liczba wyświetleń treści obiektu:

21

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://delibra.bg.polsl.pl/publication/78160

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

×

Cytowanie

Styl cytowania:

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji